Depositionstechniken

Gezielt auf die Anwendung abgestimmte Schichtsysteme sind bei der Optimierung von Oberflächen bzw. deren Eigenschaften seit Jahren Stand der Technik und fortwährend Gegenstand der aktuellen Forschung. Wir beschäftigen uns mit dünnen Schichten, die mittels physikalischen Verfahren der Dampfphasenabscheidung (PVD) erzeugt werden. Hierfür verwenden wir zwei unterschiedliche Techniken, die uns zum einen durch sequentielles Abscheiden das Herstellen von Multilagen und zum anderen die Bildung stöchiometrisch eingestellter Einzelschichten mittels Co-Evaporation ermöglichen. Ersteres wird in einer Ionenstrahlsputteranlage mit Kaufmann-Quelle erzielt, während letzteres via Elektronenstrahlverdampfung erreicht wird. Diese verfügt über zwei Verdampferquellen sowie eine Hochtemperatur- und Mitteltemperatureffusionszelle, welche die Abscheidung hochreiner metallischer und keramischer Schichten zulassen.


 


Zuletzt geändert am 12. April, 2011