Weißlichtinterferometrie

Die Charakterisierung technischer Oberflächen erfordert zunehmend den Einsatz zerstörungsfreier, berührungsloser Verfahren, die eine hochpräzise Messung der Oberflächentopographie auf statistisch relevanten Flächendimensionen ermöglichen. Dadurch wird ein Zugang zu quantitativen Aussagen über Rauheitskenngrößen und Oberflächentexturen eröffnet. Eine etablierte Methode, die eine derartige Vermessung von nicht transparenten und teiltransparenten Materialien mit einer lateralen Auflösung bis 0,5 µm und einer vertikalen Auflösung bis 0,1 nm zulässt ist die Weißlichtinterferometrie. Zwei Interferometer dieses Typs können verwendet werden, die uns vielfältige Analysemöglichkeiten eröffnen. Dazu zählen unter anderem die Charakterisierung und darauf folgende 3D-Rekonstruktion von teiltransparenten Schichtsystemen sowie Schichtdickenmessungen für Größenordnungen zwischen 0,5 - 50 µm. Eine weitere Anwendung der Rekonstruktion ist die Volumenberechnung von Oberflächenmerkmalen im Vergleich zu einer Referenzoberfläche, wie sie bei der Beurteilung von Materialverschleiß Verwendung findet. Zudem können Oberflächenstrukturen anhand ihrer Größenskala analysiert werden, woraus Welligkeit und Rauheit gemessen und in Raumfrequenzspektren aufgeschlüsselt werden. Der apparative Aufbau lässt es zu Stufen in bearbeiteten Oberflächen zu vermessen, die bis zu 20 mm Höhe aufweisen, ohne an vertikaler Auflösung einzubüßen.


 


Zuletzt geändert am 12. April, 2011